TY  - GEN
AU  - Coulon,Pierre-Marie
AU  - Damilano,Benjamin
AU  - Alloing,Blandine
AU  - Chausse,Pierre
AU  - Walde,Sebastian
AU  - Enslin,Johannes
AU  - Armstrong,Robert
AU  - Vézian,Stéphane
AU  - Hagedorn,Sylvia
AU  - Wernicke,Tim
AU  - Massies,Jean
AU  - Zúñiga-Pérez,Jesus
AU  - Weyers,Markus
AU  - Kneissl,Michael
AU  - Shields,Philip A
TI  - Displacement Talbot lithography for nano-engineering of III-nitride materials
SN  - 2055-7434
PY  - 2019///
PB  - Microsystems & nanoengineering
N1  - Publication Type: Journal Article
UR  - https://doi.org/10.1038/s41378-019-0101-2
ER  -