TY - GEN AU - Zastrau,U AU - Rödel,C AU - Nakatsutsumi,M AU - Feigl,T AU - Appel,K AU - Chen,B AU - Döppner,T AU - Fennel,T AU - Fiedler,T AU - Fletcher,L B AU - Förster,E AU - Gamboa,E AU - Gericke,D O AU - Göde,S AU - Grote-Fortmann,C AU - Hilbert,V AU - Kazak,L AU - Laarmann,T AU - Lee,H J AU - Mabey,P AU - Martinez,F AU - Meiwes-Broer,K-H AU - Pauer,H AU - Perske,M AU - Przystawik,A AU - Roling,S AU - Skruszewicz,S AU - Shihab,M AU - Tiggesbäumker,J AU - Toleikis,S AU - Wünsche,M AU - Zacharias,H AU - Glenzer,S H AU - Gregori,G TI - A sensitive EUV Schwarzschild microscope for plasma studies with sub-micrometer resolution SN - 1089-7623 PY - 2018///0302 N1 - Publication Type: Journal Article UR - https://doi.org/10.1063/1.5007950 ER -