TY  - GEN
AU  - Lee,Min-Seon
AU  - Oh,Hoon-Jung
AU  - Lee,Joo-Hee
AU  - Lee,In-Geun
AU  - Shin,Woo-Gon
AU  - Kim,Kyu-Dong
AU  - Park,Jin-Gu
AU  - Ko,Dae-Hong
TI  - Post-Cleaning Effect on a HfO2 Gate Stack Using a NF3/NH3 Plasma
SN  - 1533-4899
PY  - 2016///0811
N1  - Publication Type: Journal Article; Research Support, Non-U.S. Gov't
UR  - https://doi.org/10.1166/jnn.2016.12257
ER  -