TY  - GEN
AU  - Voelkel,Reinhard
AU  - Vogler,Uwe
AU  - Bich,Andreas
AU  - Pernet,Pascal
AU  - Weible,Kenneth J
AU  - Hornung,Michael
AU  - Zoberbier,Ralph
AU  - Cullmann,Elmar
AU  - Stuerzebecher,Lorenz
AU  - Harzendorf,Torsten
AU  - Zeitner,Uwe D
TI  - Advanced mask aligner lithography: new illumination system
SN  - 1094-4087
PY  - 2011///0202
N1  - Publication Type: Journal Article; Research Support, Non-U.S. Gov't
UR  - https://doi.org/10.1364/OE.18.020968
ER  -